Etching: Unterschied zwischen den Versionen
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===Benutzungshinweise== | |||
# belichten der positiven Fotoplatine mit dem Belichtungsgerät (ca. 2,5 - 4 min) | |||
# sofort danach in das Entwicklerbad (kleine Flasche, Schale und Pinzette im Regal) | |||
# Platine abwaschen | |||
# Platine in das vorgewärmte Ätzbad (ca. 40 - 45 °C, Natriumpersulfat zurzeit in der Küvette) Dauer: 5-7 min | |||
# Abspülen der Platine -> fertig | |||
Version vom 20. Januar 2010, 14:28 Uhr
Themen rund um das Ätzen im HQ
Belichtungsgerät
Wurde aus einem alten Scanner und einem Gesichtsbräuner gebaut.
aktuell: Beta Version 0.9 ;)
Ätzmaschine
Steht in der Werkstatt im Regal. Ätzmittel => Natriumpersulfat (zurzeit noch in der Küvette), Entwickler => NaOH (in der kleinen Flasche s. Beschriftung)
In Benutzung:
=Benutzungshinweise
- belichten der positiven Fotoplatine mit dem Belichtungsgerät (ca. 2,5 - 4 min)
- sofort danach in das Entwicklerbad (kleine Flasche, Schale und Pinzette im Regal)
- Platine abwaschen
- Platine in das vorgewärmte Ätzbad (ca. 40 - 45 °C, Natriumpersulfat zurzeit in der Küvette) Dauer: 5-7 min
- Abspülen der Platine -> fertig